Bevezetés a nikkelhab előkezelésébe

Nikkel habaz akkumulátor elektródák gyártásához használt anyag, és a közönséges nikkelhab anyag gyártási folyamata a következő: a poliuretán szivacsot először vezetőképessé teszik, majd elektrolizáljuk, végül szinterelik.

A fenti lépésekben a konduktív kezelés általában magában foglaljakémiai bevonat, vezetőképes ragasztó bevonat és vákuumozásháromféleképpen; az elektromos leválasztás lehet szulfátos vagy szulfamátos nikkelezés; a meglévő szinterezési folyamat először a poliuretán szivacs levegővel történő elégetésével, majd a szivacs redukálásával és szinterezésével fejeződik be hidrogén redukáló atmoszférában két lépésben, ahol a poliuretán szivacsról leégett levegő 300-700 °C hőmérsékleten oxidálódik és dekarbonizálódik. °C. A szinterezési folyamat a poliuretán szivacs levegővel történő elégetésével, majd a poliuretán szivacs redukálásával és szinterezésével fejeződik be hidrogén redukáló atmoszférában; A redukciós kezelést hidrogén redukciós atmoszférában, 800-1000°C hőmérsékleten, 30-60 percig végezzük, a redukciós atmoszféra ammóniabontó gáz, a felhasznált bomlógáz mennyisége 0,8-1,2 L/g (grammonként). nikkel 0,8-1,2 liter ammóniabontó gázt igényel)

Továbbfejlesztett készítési módnikkel habamelynek lépése egy poliuretán szivacs vezetőképességének, elektrodepozíciójának és szinterezésének a lépése, azzal jellemezve, hogy az említett szinterezési lépés a poliuretánhab közvetlenül redukáló atmoszférában történő pirolizálása és szinterezése az elektromos leválasztás után, ahol a redukáló atmoszféra ammóniabontó gáz, a redukáló hőmérséklet 400-1000°C, a redukciós idő 30-60 perc, és a bontógáz fogyasztás 0,4-0,8 L/g. (Minden gramm nikkelnek 0,4-0,8 liter ammóniabontó gázt kell fogyasztania.) Az ammóniabontó gáz nitrogén és hidrogén keveréke, a nitrogén és a hidrogén térfogataránya 1:3.

A reakciómechanizmus az, hogy az elektromos leválasztás utánnikkel habpoliuretán szivacsot tartalmazó közvetlenül a hidrogén redukciós atmoszférában pirolízis szinterezés, ahol a szén és hidrogén hatás, CH4, C2H6 és egyéb gáz halmazállapotú szénhidrogének keletkezése, a fenti elgázosítási eljárás elegendő a grafit C eltávolításához a porózus testtisztítóban.

Hatékonyan oldja meg a szinterezési folyamatban a nikkelhab meglévő technológiájának meglévő hiányosságait, mint például a könnyű repedés, a deformációs ívelés, az alacsony hozam, a magas energiafogyasztás, a nikkelhab mechanikai tulajdonságai nem stabilak.